論文 - 神村　共住

Fused silica contamination layer removal using magnetic field-assisted finishing

Julian Long, Daniel Ross, Erik Tastepe, Mikayla Lamb, Yusuke Funamoto, Daichi Shima, Tomosumi Kamimura, and Hitomi Yamaguchi  ( 共著 )

Journal of the American Ceramic Society   103 ( 5 ) 3008 - 3019   2020年05月

研究論文（学術雑誌）  英語

High surface laser-induced damage threshold of SrB4O7 single crystals under 266-nm (DUV) laser irradiation

Yasunori Tanaka, Ryota Murai, Yoshinori Takahashi, Tsuyoshi Sugita, Daisetsu Toh, Kazuto Yamauchi, Sora Aikawa, Haruki Marui, Yuji Umeda, Yusuke Funamoto, Tomosumi Kamimura, Melvin John F. Empizo, Masayuki Imanishi, Yusuke Mori, Masashi Yoshimura  ( 共著 )

Optics Express   28   29239 - 29244   2020年

研究論文（学術雑誌）  英語

Comparison of Removal Phenomena in Photoresist Materials　Using Laser Irradiation

Tomosumi Kamimura, Naoki Nishioka, Yuji Umeda, Daichi Shima, Yusuke Funamoto, Yoshiyuki Harada, Masashi Yoshimura, Ryosuke Nakamura, and Hideo Horibe  ( 共著 )

J. Photopolym. Sci. Technol.   32 ( 4 ) 603 - 607   2019年06月

研究論文（学術雑誌）  英語

Polarization-sensitive femtosecond mid-infrared spectrometer with a tunable Fabry–Perot filter and chirped-pulse upconversion

Ryosuke Nakamura, Yoshizumi Inagaki, and Tomosumi Kamimura  ( 共著 )

Applied Optics   57 ( 36 ) 10517 - 10521   2018年12月

研究論文（学術雑誌）  英語

Time-resolved Analysis of Resist Stripping Phenomenon Using Laser Irradiation

omosumi Kamimura, Yuji Umeda, Hirouki Kuramae, Kosuke Nuno, Ryosuke Nakamura, and Hideo Horibe  ( 単著 )

J. Photopolym. Sci. Technol.   31 ( 3 ) 413 - 418   2018年

研究論文（学術雑誌）  英語

Analysis of resist removal phenomenon using laser irradiation

T. kamimura, H. Kuramae, T. Yamashiro, K. Nuno, Y. Umeda, S. Tsujimoto, R. Nakamura, T. Nishiyama, and H. Horibe  ( 共著 )

J. Photopolym. Sci. Technol.   30 ( 3 ) 291 - 295   2017年

研究論文（学術雑誌）  英語

Removal Technology of Poly-Vinyl Phenol Using Laser Irradiation

T. Kamimura, K. Nuno, Y. Kuroki, T. Yamashiro, S. Tsujimoto, R. Nakamura, S. Takagi, T. Nishiyama, H. Horibe  ( 共著 )

J. Photopolym. Sci. Technol.   29 ( 4 ) 633 - 637   2016年

研究論文（学術雑誌）  英語

Refined Sellmeier and thermo-optic dispersion formulas for Li2B4O7

Nobuhiro Umemura, Jun Watanabe1, Daisuke Matsuda, and Tomosumi Kamimura  ( 共著 )

Japanese Journal of Applied Physics   56 ( 3 ) 032602-1 - 032602-4   2016年

研究論文（学術雑誌）  英語

Wide-bandgap nonlinear crystal LiGaS2 for femtosecond mid-infrared spectroscopy with chirped pulse upconversion

R. Nakamura, Y. Inagaki, H. Hata, N. Hamada, N. Umemura, T. Kamimura  ( 共著 )

Appl. Opt.   55   9365 - 9369   2016年

研究論文（学術雑誌）  英語

Effect of Temperature od Degradation of Polymers for Photoresist Using Ozone

Kohei Matsuura, Takashi Nishiyama, Eriko Sato, Masashi Yamamoto, Tomosumi Kamimura, Kunihito Koike and Hideo Horibe  ( 共著 )

J. Photopolym. Sci. Technol.   29 ( 4 ) 623 - 628   2016年

研究論文（学術雑誌）  英語

Decomposition Process of PMMA-based Polymer Using Atomic Hydrogen Generated by a Tungsten Hot-Wire Catalyst

Seiji Takagi, Takashi Nishiyama, Masashi Yamamoto, Eriko Sato, Tomosumi Kamimura, Toshiyuki Ogata and Hideo Horibe  ( 共著 )

J. Photopolym. Sci. Technol.   29 ( 4 ) 629 - 632   2016年

研究論文（学術雑誌）  英語

Dependence on resist stripping efficiency to irradiating beam size in advanced laser resist stripping method

T. Kamimura, Y. Kuroki, T. Murakami et . al.  ( 共著 )

Journal of Photopolymer Science and Technology   28   307 - 311   2015年

研究論文（学術雑誌）  英語

Scanning removal of ion-implanted novolak resist by using a laser irradiation without occurring laser-induced surface damage

神村共住、黒木雄太、村岡宏樹、西山貴志、原田義之、倉前宏行、堀邊英夫  ( 共著 )

Proc. SPIE   9238   92380K   2014年

研究論文（学術雑誌）  英語

Scannning removal of ion-implanted novolak resist by using a laser irradiation

T. Kamimura, Y. Kuroki, H. Muraoka et al.  ( 共著 )

Journal of Photopolymer Science and Technology   Vol.27   237 - 241   2014年

研究論文（学術雑誌）  英語

Strriping of the potitive-tone Diazonaphthoquinone / Novolak resist using laser irradiation from visible to near infrared wavelength

T. Kamimura, H. Muraoka, Y. Yamana, Y. Matsura, and H. Horibe

Journal of Photopolymer Science and Technology   Volume 25 ( Number 6 ) 741 - 746   2012年

研究論文（学術雑誌）  英語

Laser removal of positive-tone diazonaphthoquinone / novolak resist without occurring laser-induced damage to the silicon wafer

Hiroki Muraoka, Tomosumi Kamimura, Yuki Yamana, Yoshiaki Matsura, and Hideo Horibe

Proc. SPIE 8530, 85301V, 1-5     2012年

研究論文（学術雑誌）  英語

Investigation of bulk laser damage in transparent YAG ceramics controlled with micro-structural refinement

T. Kamimura, Y. Kawaguchi, T. Arii and W. Shirai, T. Mikami, T. Okamoto, Yan Lin Aung, and A. Ikesue  ( 共著 )

Proc. SPIE   7132   713215.1-713215.5   2009年

研究論文（学術雑誌）  英語

酸化亜鉛微粒子の励起子発光の熱処理効果II

檀原有吾，原田義之，神村 共住，平井豪，大野宣人

第19回光物性研究会概要集(2008)，pp.142-145     142 - 145   2008年10月

研究論文（その他学術会議資料等）  日本語

UV laser-induced damage tolerance measurements of CsB3O5 crystals and its application for UV light generation

D. Rajesh, M. Yoshimura, T. Eiro, Y. Mori, T. Sasaki, R. Jayavel, T. Kamimura, T. Katsura, T. Kojima, J. Nishimae and K. Yasui

Optical Materials   Volume 31 ( Issue 2 ) 461 - 463   2008年10月

研究論文（学術雑誌）  日本語

"Effect of Crystal Defects on Laser-Induced-Damage Tolerance of Organic Crystal, 4-Dimethylamino-N-methyl-4-stilbazolium Tosylate,"

Y. Takahashi, K. Sugiyama, S. Brahadeeswaran, S. Onzuka, T. Kamimura, M. Yoshimura Y. Mori, K. Yoshida, and T. Sasaki,

Jpn. J. Appl. Phys., 46, No. 1, 318-323     2007年01月