研究発表 - 神村　共住

非線形吸収を利用したCaF2結晶の結晶品質の評価

熊田崇弘、池田祐一、河口 豊、田中祐輝、神村共住、中村亮介、岡本隆幸、吉田國雄

  口頭（一般）

　

　

　

Characterization of scattering defects structure in CaF2 crystal

T. Kamimura, Y. Ikeda T. Arii and W. Shirai

  口頭（一般）

　

　

　

透光性Nd3+:YAGセラミックのレーザー損傷耐性評価

白井 航，有井 達矢, 河口 豊, 神村 共住, 岡本 隆幸, Yan Lin Aung, 池末 明生

  口頭（一般）

　

　

　

レーザー光を用いたレジスト剥離技術の開発

嘉納将太,田中祐輝,柴田敦史,堀邊英夫,神村共住

  口頭（一般）

　

　

　

熱処理したZnO超微粒子の励起子発光(II)

檀原 有吾，原田 義之，神村 共住，平井 豪，大野 宣人

  口頭（一般）

　

　

　

酸化亜鉛微粒子の励起子発光の熱処理効果II

檀原 有吾，原田 義之，神 村 共住，平井 豪，大野 宣人

  口頭（一般）

　

　

　

Investigation of bulk laser damage in transparent YAG ceramics controlled with micro-structural refinement

T. Kamimura, Y. Kawaguchi, T. Arii and W. Shirai, T. Mikami, T. Okamoto, Yan Lin Aung, and A. Ikesue

  口頭（一般）

　

　

　

レーザー光を用いたレジスト除去のメカニズムと波長依存性に関する検討

生和高明、神村共住、勝美柱伍、吉田國雄、堀邊英夫

  口頭（一般）

　

　

　

非線形吸収を利用したCaF２結晶の品質評価技術の開発

熊田崇弘、 池田祐一、 河口 豊、 田中祐輝、 神村共住、吉田國雄、岡本隆幸

  口頭（一般）

　

　

　

HR膜つきYbドープエアホール型ダブルクラッドファイバーレーザーのレーザー発振特性

澤田久、山本哲也、石田智彦、厨子敏博、神村共住、吉田國雄

  口頭（一般）

　

　

　

オゾンを用いたレジスト剥離技術の開発

堀邊英夫、市川智和、山本雅史、松本秀樹、高松慎也、田上祥太、秦隆志、神村共住

  口頭（一般）

　

　

　

レーザー光を用いたレジスト除去のメカニズム

生和高明、勝美柱伍、神村共住、吉田國雄、堀邊英夫

  口頭（一般）

　

　

　

アニールによるCaF2結晶の品質改善

池田祐一、熊田崇弘、河口豊、田中祐輝、神村共住、吉田國雄

  口頭（一般）

　

　

　

Siウェハーにレーザー損傷を発生させないレーザーレジスト剥離のメカニズム

Y. Kuroki, T. Kiriyama, H. Muraoka, K. Kawasaki, T. Murakami, H. Kuramae, T. Kamimura and H. Horibe

国際会議  SPIE Laser Damage Symposium XLVI  ( コロラド州、米国 )  ポスター（一般）

　

　

　

広いスペクトルをもつNdドープYSAGコンポジットセラミックの合成とそのレーザー損傷耐性

Y. Tamura, T. Kiriyama, K. Kitabayashi, K. Nuno, T. Kamimura, Yan Lin Aung, and A. Ikesue

国際会議  第47回レーザー損傷会議  ( コロラド州、アメリカ )  ポスター（一般）

　

　

　

チャープパルスアップコンバージョンを用いた光活性分子の過渡的なIRポンプ-プローブ分光

Hidefumi Hata, Ryosuke Nakamura, Norio Hamada, Tomosumi Kamimura

国際会議  第３回超高速の構造力学に関する国際会議  ( チューリッヒ、スイス )  ポスター（一般）

　

　

　

レーザー照射を用いたレジスト剥離技術の開発

T. kamimura, Y. Kuroki, K. Kawasaki, T. Murakami, Y. Harada, H. Kuramae, T. Nishiyama, and H. Horibe

国際会議  第33回フォトポリマーカンファレンス  ( 千葉、日本 )  口頭（一般）

　

　

　

異なる蒸着方法を用いたコーティング応力の制御

T. Murakami, M. Akimoto, H. Omatsu, and T. Kamimura

国際会議  第47回SPIEレーザー損傷会議  ( コロラド州、米国 )  ポスター（一般）

　

　

　

フッ化カルシウム結晶での研磨不純物除去による表面損傷耐性の向上

神村 共住

国際会議  第47回SPIEレーザー損傷会議  ( コロラド州、アメリカ )  ポスター（一般）

　

　

　

金属やナノ粒子を表面吸着させたグラフェンの電気特性とラマン分光

藤元章，大森理史，長尾祥吾，三木孝浩，先田雅史，太田椋也，大東隆文, 小山政俊，原田義之，神村共住，佐々誠彦，矢野満明

日本材料学会　平成２８年度 半導体エレクトロニクス部門委員会・ナノ材料  口頭（一般）