小池 一歩 (コイケ カズト)

KOIKE KAZUTO

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職名

教授

研究分野・キーワード

半導体、酸化物、結晶成長、デバイス応用

出身学校 【 表示 / 非表示

  • 大阪工業大学   工学部   電子工学科   日本国

出身大学院 【 表示 / 非表示

  • 大阪工業大学  工学研究科  電気電子工学専攻博士後期課程  博士課程  修了  日本国

取得学位 【 表示 / 非表示

  • 大阪工業大学 -  修士(工学)  応用物性

  • 大阪工業大学 -  博士(工学)  酸化物薄膜の作製とデバイス応用

 

論文 【 表示 / 非表示

  • FDTD法によるナノスケール 多孔質モスアイ構造VO2薄膜の評価

    和田英男,小池一歩,広藤裕一,前元利彦  ( 共著 )

    日本赤外線学会   32 ( 1 ) 53 - 60   2022年08月

    研究論文(学術雑誌)  日本語

  • MOD法によるNb,Ta添加VO2薄膜における相転移温度の低温化

    和田英男,扶川泰斗,豊田和晃,小池一歩,河原正美  ( 共著 )

    電気学会論文誌A(基礎・材料・共通部門誌)   142 ( 5 ) 221 - 228   2022年05月

    研究論文(学術雑誌)  日本語

    DOI

  • MOD法によるNb添加VO2薄膜の作製と相転移温度の低温化

    和田 英男,小池 一歩,河原 正美  ( 共著   担当範囲:薄膜作製,物性評価,考察 )

    日本赤外線学会誌   31 ( 1 ) 167 - 173   2021年08月

    研究論文(学術雑誌)  日本語

  • MOD法によるC面サファイア基板上VOx 薄膜成長と評価

    和田英男,小池一歩,矢野満明  ( 共著   担当範囲:薄膜作製,物性評価,考察 )

    電気学会論文誌A   141 ( 5 ) 345 - 350   2021年05月

    研究論文(学術雑誌)  日本語

    DOI

  • シランカップリング剤の分子量が表面処理層の化学吸着率におよぼす影響

    中村 充,橋口千聖,寺尾俊輝,真鍋 圭,小池一歩,矢野満明, 平井智康,藤井秀司,中村吉伸  ( 共著 )

    日本接着学会誌   56 ( 12 ) 472 - 479   2020年12月

    研究論文(学術雑誌)  日本語

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工業所有権 【 表示 / 非表示

  • 調光ガラス及びその製造方法、並びに、前記調光ガラスを構成する多孔質モスアイ構造の二酸化バナジウム薄膜

    特許

    特願:2021-122757 

    和田英男,小池一歩,前元利彦

    出願国:日本国  出願日:2021年07月27日  出願人名称:和田英男,小池一歩,前元利彦

  • 半導体発光素子

    特許

    特願:2009-059963 

    矢野満明,小池一歩

    出願国:日本国  出願日:2009年03月12日  出願人名称:学校法人常翔学園 大阪工業大学

    半導体発光素子において,発光効率の低下を抑えつ発光波長の長波長化を図る

  • 酸化亜鉛系トランジスタ

    特許

    特願:2005-55823  特開:2006-245105  特許:4851103

    佐々,井上,矢野,前元,小池

    出願国:日本国  出願日:2005年03月01日  出願人名称:学校法人常翔学園

    公開日:2006年09月14日  登録日(発行日):2005年03月01日

    バッファ層中に形成される電子縮退層の影響を無くし,また,チャネル層の酸化亜鉛自身の高抵抗化を容易にした酸化亜鉛系トランジスタ.

  • 薄膜積層構造体の製造方法

    特許

    特願:2003-385344  特許:2005-145753

    矢野満明,井上正崇,佐々誠彦,小池一歩

    出願国:日本国  出願日:2003年11月14日  出願人名称:学校法人大阪工大摂南大学と独立行政法人科学技術振興機構の共同出願

    登録日(発行日):2007年03月16日

  • 単結晶シリコン基板上の酸化亜鉛単結晶膜の製造方法

    特許

    特願:2001-361242  特開:2003-165793  特許:4048316

    矢野・井上・佐々・小池

    出願国:日本国  出願日:2001年11月27日  出願人名称:科学技術振興事業団

    公開日:2003年06月10日  登録日(発行日):2007年12月07日

    単結晶シリコン基板上にフッ化カルシウム単結晶薄膜をエピタキシャル成長し,このフッ化カルシウム単結晶薄膜上に酸化亜鉛単結晶膜をエピタキシャル成長することを特徴とする,単結晶シリコン基板上の酸化亜鉛単結晶膜の製造方法

競争的資金等の研究課題 【 表示 / 非表示

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研究発表 【 表示 / 非表示

  • クレアチニンを対象とした拡張ゲート電界効果トランジスター型バイオセンサーの作製と性能評価

    道端 涼,牧野 賀成,広藤 裕一,廣芝 伸哉,小池 一歩

    国内会議  応用物理学会関西支部第1回講演会  ( 大阪大学吹田キャンパス )  ポスター(一般)

    2022年05月
     
     

  • β構造三酸化モリブデン薄膜の分子線エピタキシャル成長とエレクトロクロミック特性評価

    仲井 啓悟,リチャード オンコ,廣芝 伸哉,小池 一歩

    国内会議  応用物理学会関西支部第1回講演会  ( 大阪大学吹田キャンパス )  ポスター(一般)

    2022年05月
     
     

  • 溶液塗布熱分解法によって成膜したc 面サファイア基板上 β-Ga2O3 薄膜の物性評価

    小山 政俊、豊田 和晃、大内 涼介、廣芝 伸哉、小池 一歩

    国内会議  第69回応用物理学会春季学術講演会  ( 青山学院大学 (オンライン) )  口頭(一般)

    2022年03月
     
     

    【発表要旨集】 第69回応用物理学会春季学術講演会 講演予稿集  16-062  -  16-062  2022年03月

  • MOD法によるガラス基板へのVO2薄膜の成膜と特性評価

    扶川泰斗,豊田和晃,大内涼介,小池一歩,小山政俊,和田英男,河原正美

    国内会議  第19回 赤外放射応用関連学会等年会  ( オンライン )  口頭(一般)

    2022年01月
     
     

    【発表要旨集】 日本赤外線学会 第91回定例研究会 兼 第19回赤外線放射応用関連学会年会 資料  3  -  5  2022年01月

  • 拡張ゲート電界効果トランジスターを用いたバイオセンサー

    小池一歩,広藤裕一,廣芝伸哉

    国内会議  令和3年電気関係学会関西連合大会  ( 同志社大学(オンライン) )  口頭(招待・特別)

    2021年12月
     
     

    【発表要旨集】 令和3 年電気関係学会関西連合大会講演集  125  -  126  2021年12月

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ティーチング・ポートフォリオ 【 表示 / 非表示

  • 2022年度

    教育の理念:

    日頃の授業や研究指導を通じて,専門職業人として求められる専門基礎知識と社会人基礎力を身につけた学生を育成したい.

    教育の理念の具現化・成果等:

    授業や研究活動を通じて,科学技術の最新動向を伝え,より多くの学生に科学技術に関心をもっていただく.これによって,大学で学んだことや経験が将来どのように生かされるのかイメージをもってもらい,学習意欲の向上につなげたい.

    今後の目標・改善点等:

    より多くの学生に科学技術に関心を持ってもらえるよう,授業や研究指導方法を随時見直していきたい.

担当授業科目(学内) 【 表示 / 非表示

  • エンジニアリング探究演習(PBL)   ( 演習 )

  • アナログ電子回路   ( 講義 )

  • 電子情報システム実験III   ( 実験実習 )

  • エレクトロニクスプラクティス   ( 実験実習 )

  • 半導体デバイス工学特論   ( 講義 )

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