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職名 |
教授 |
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研究分野・キーワード |
半導体、酸化物、結晶成長、デバイス応用 |
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所属学会 【 表示 ／ 非表示 】
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1995年04月-継続中
応用物理学会 日本国
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2003年04月-継続中
日本材料学会 日本国
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2018年11月-継続中
電気学会 日本国
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2021年09月-継続中
日本赤外線学会 日本国
論文 【 表示 ／ 非表示 】
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Effects of post-deposition annealing on crystal structures and UV responses of mist CVD grown amorphous Ga2O3 thin films
Masatoshi KOYAMA, Manami MIYAZAKI, Iori YAMASAKI, Yuma TANAKA, Misaki NISHIKAWA, Kazuto KOIKE, Akihiko FUJII and Toshihiko MAEMOTO ( 共著 )
The Society of Materials Science, Japan 2025年10月
研究論文（学術雑誌） 日本語
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Fabrication and characterization of β-phase (Ga1-xInx)2O3 alloyed films on c-plane sapphire substrates by chemical solution deposition for application in visible-blind UV photodetectors
Kazuto Koike，Akito Horibe, Yoshifumi Taniguchi, Manami Miyazakik, Iori Yamasaki, Hiroto Turuyama, Masatoshi Koyama, Nobuya Hiroshiba ( 共著 )
The Society of Materials Science, Japan 2025年10月
研究論文（学術雑誌） 日本語
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住環境を改善する極薄フレキシブルVO2フィルムの開発
和田 英男，桑山 智大，廣芝 伸哉，小池 一歩，河原 正美 ( 共著 )
日本赤外線学会誌 35 ( 1 ) 1 - 6 2025年08月
研究論文（学術雑誌） 日本語
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Kazuto Koike, Taichi Higo, Issei Yamana, Masaya Honda, Itsuki Ando, Yuichi Hirofuji, Nobuya Hiroshiba ( 共著 )
Japanese Journal of Applied Physics 2025年07月
研究論文（学術雑誌） 英語
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β-MoO3単結晶薄膜の分子線エピタキシャル成長と電気化学的なプロトン注入効果
鶴山 大翔，上林 優斗，広藤 裕一，廣芝 伸哉，小池 一歩 ( 共著 )
電子情報通信学会誌 技報 125 ( 62 ) 14 - 17 2025年06月
研究論文（学術雑誌） 日本語
著書 【 表示 ／ 非表示 】
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矢野満明，佐々誠彦，小池一歩 ( 分担執筆 担当範囲:2編 薄膜の作製と加工，4章 液相薄膜堆積法，3節 塗布法 )
エヌ・ティー・エス 2020年02月 単行本（学術書） 日本語
【原書情報】 薄膜作製応用ハンドブック 2020年02月 和文
総説・解説記事 【 表示 ／ 非表示 】
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廣芝 伸哉，小池 一歩 ( 共著 )
設計工学 ( 日本設計工学会 ) 58 ( 3 ) 84 - 87 2023年02月
総説・解説（学術雑誌） 日本語
工業所有権 【 表示 ／ 非表示 】
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バイオセンサ
特許
特願：2025-030899
廣芝 伸哉，楯 凱貴，小池 一歩
出願国：日本国 出願日：2025年02月28日 出願人名称：学校法人常翔学園
代理人名称：神野 直美
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二酸化バナジウム薄膜の製造方法及び二酸化バナジウム薄膜形成用原料溶液
特許
特願：2022-165164 特開：2024-058048
和田 英男，小池 一歩，扶川 泰斗，河原 正美
出願国：日本国 出願日：2022年10月14日 出願人名称：学校法人常翔学園, 株式会社高純度化学研究所
代理人名称：木下 茂，澤田 優子 公開日：2024年04月25日
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調光ガラス及びその製造方法、並びに、前記調光ガラスを構成する多孔質モスアイ構造の二酸化バナジウム薄膜
特許
特願：2021-122757 特開：2023-018549
和田英男，小池一歩，前元利彦
出願国：日本国 出願日：2021年07月27日 出願人名称：和田英男，小池一歩，前元利彦
公開日：2023年02月08日
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半導体発光素子
特許
特願：2009-059963
矢野満明，小池一歩
出願国：日本国 出願日：2009年03月12日 出願人名称：学校法人常翔学園 大阪工業大学
半導体発光素子において，発光効率の低下を抑えつ発光波長の長波長化を図る
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酸化亜鉛系トランジスタ
特許
特願：2005-55823 特開：2006-245105 特許：4851103
佐々，井上，矢野，前元，小池
出願国：日本国 出願日：2005年03月01日 出願人名称：学校法人常翔学園
公開日：2006年09月14日 登録日(発行日)：2005年03月01日
バッファ層中に形成される電子縮退層の影響を無くし，また，チャネル層の酸化亜鉛自身の高抵抗化を容易にした酸化亜鉛系トランジスタ．
受賞 【 表示 ／ 非表示 】
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令和5年度 電気学会 基礎・材料・共通部門特別賞（論文賞）
電気学会 学会誌・学術雑誌による顕彰
受賞国：日本国
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第8回 日本赤外線学会 学会誌論文賞
日本赤外線学会 学会誌・学術雑誌による顕彰
受賞国：日本国
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令和2年度 日本材料学会 論文賞
公益社団法人 日本材料学会 学会誌・学術雑誌による顕彰
受賞国：日本国
競争的資金等の研究課題 【 表示 ／ 非表示 】
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プロトン感応性酸化物を用いたニューロモルフィック素子への応用
公益財団法人 JKA 競輪とオートレースの補助事業
研究期間：2025年04月 - 2026年03月
研究発表 【 表示 ／ 非表示 】
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β相MoO3単結晶薄膜の分子線エピタキシャル成長と電気化学的なプロトン注入効果
鶴山 大翔，上林 優斗，広藤 裕一，廣芝 伸哉，小池 一歩
国内会議 電子情報通信学会 電子デバイス研究会 ( 山形大学 米沢キャンパス ) 口頭（一般）
2025年06月 -
Hf0.5Zr0.5O2基板上へのグラフェンの転写と構造評価
菊池 聖人，高瀬 寛士，小池 一歩，原田 義之，藤元 章，廣芝 伸哉
国内会議 応用物理学会関西支部 2025年度第1回講演会 ( 産業技術総合研究所 関西センター ) ポスター（一般）
2025年06月【発表要旨集】 応用物理学会関西支部 2025年度第1回講演会予稿集 P-12 2025年06月
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SrTiO3基板のステップ表面処理と準安定β相MoO3薄膜の分子線エピタキシャル成長
上林 優斗，鶴山 大翔，山本 勢那，広藤 裕一，廣芝 伸哉，小池 一歩
国内会議 応用物理学会関西支部 2025年度第1回講演会 ( 産業技術総合研究所 関西センター ) ポスター（一般）
2025年06月【発表要旨集】 応用物理学会関西支部 2025年度第1回講演会予稿集 P-3 2025年06月
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溶液法によるガラス基板上へのα相MoO3薄膜の成膜とバイオセンサー応用
山名 一生，日後 太一，本多 真也，安藤 樹，広藤 裕一，廣芝 伸哉，小池 一歩
国内会議 応用物理学会関西支部 2025年度第1回講演会 ( 産業技術総合研究所 関西センター ) ポスター（一般）
2025年06月【発表要旨集】 応用物理学会関西支部 2025年度第1回講演会予稿集 P-2 2025年06月
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溶液塗布熱分解法による酸化ガリウム薄膜の作製とpHセンサー応用
松尾 涼佑，山本 青依，山﨑 風斗，広藤 裕一，小池 一歩，廣芝 伸哉
国内会議 応用物理学会関西支部 2025年度第1回講演会 ( 産業技術総合研究所 関西センター ) ポスター（一般）
2025年06月【発表要旨集】 応用物理学会関西支部 2025年度第1回講演会予稿集 P-16 2025年06月
ティーチング・ポートフォリオ 【 表示 ／ 非表示 】
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2024年度
教育の理念：
日頃の授業や研究指導を通じて，専門職業人として求められる専門基礎知識と社会人基礎力を身につけた学生を育成したい．
教育の理念の具現化・成果等：
授業や研究活動を通じて科学技術の最新動向を伝え，より多くの学生に科学技術に関心をもっていただく．これによって，大学で学んだことや経験が将来どのように生かされるのかイメージをもってもらい，学習意欲の向上につなげたい．
今後の目標・改善点等：
より多くの学生に科学技術に関心を持ってもらえるよう，授業や研究指導方法を随時見直していきたい．
担当授業科目（学内） 【 表示 ／ 非表示 】
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基礎電子回路II ( 講義 )
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電子回路設計 ( 講義 )
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アナログ電子回路 ( 講義 )
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電子情報システム実験III ( 実験実習 )
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エレクトロニクスプラクティス ( 実験実習 )